光刻胶

光刻胶,新突破!多家公司透露进展,8只绩优潜力股出炉

据中国化工报,华东理工大学副教授庄黎伟、美国约翰霍普金斯大学教授迈克尔·萨帕希斯领衔的国际合作团队,提出了一种间歇性旋涂化学液相沉积制备非晶态沸石咪唑酯骨架(aZIF)薄膜的方法,实现了薄膜沉积速率和厚度的可控,并进行了电子束光刻和超越极紫外光刻验证。相关研究

半导体 潜力股 光刻胶 皖维高新 azif 2025-09-27 13:30  2

2026深圳国际光刻胶产业技术展览会

光刻胶是电子领域微细图形加工的关键性材料,被誉为半导体材料皇冠上的明珠,在半导体、新型显示、印制电路板等泛半导体领域的生产中具有重要作用。随着全球对半导体技术依赖程度的加深,光刻胶的重要性愈加凸显。目前我国光刻产业的发展面临着诸多挑战。在光刻胶领域,国内高端光

深圳 技术 展览会 光刻胶 显影液 2025-09-26 17:16  2

华理团队联合打造晶圆级光刻胶沉积技术,成功通过下一代光刻验证

“我们搭建了能在大尺寸晶圆上均匀沉积 10 余种下一代先进光刻胶的技术平台体系,这也是目前全球最早报道的在溶液体系沉积咪唑类金属有机光刻胶的研究之一,并且具备晶圆级规模和纳米级的厚度精度。”近日,华东理工大学“计算传递与原子级制造研究室”庄黎伟教授告诉 Dee

光刻 晶圆 光刻胶 华理 光刻验证 2025-09-25 13:50  2

芯片战争的“隐形战场”——光刻胶为何是国产替代的关键拼图?

2025年的秋天,全球半导体产业链的博弈仍在持续。当我们谈论芯片制程突破(如2nm量产)、EUV光刻机时,往往忽略了一个藏在“幕后”的核心材料——光刻胶。这种看似微小的感光材料,直接决定了芯片电路图案的精度,是半导体制造的“心脏级”耗材。然而,当前全球高端光刻

芯片 战争 拼图 arf 光刻胶 2025-09-24 18:50  5

上海市发布首批面向光刻胶、新型储能、人形机器人等领域中试平台

第25届中国国际工业博览会开幕式上,首批上海市中试平台示范名单发布,包括光刻胶及原材料中试平台、新型储能测试基地(应用示范电站)中试平台、面向航发领域的高端机床装备中试平台和人形机器人中试平台。本次大会发布的首批上海市中试平台是上海推进中试平台举措的开端,后续

博览会 人形机器人 储能 中试 光刻胶 2025-09-23 11:12  2

光刻胶的边缘粗糙度LER是什么?

当光刻工艺推进到纳米尺寸,#热问计划#光刻胶的边缘粗糙度(LER)则成为了必须要考虑的因素。这些从外观上几乎检测不到的光刻胶边缘起伏,对芯片性能会产生多大的影响?如何量化边缘粗糙度的?又是如何降低边缘粗糙度呢?

掩膜 线宽 光刻胶 rms ler 2025-09-18 02:01  1